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美国SLAC国家加速器实验室刘彦巍教授授课 “光电讲堂”

  

  925日,受光电院院长王宇的邀请,美国SLAC国家加速器实验室教授刘彦巍做客光电讲堂,在光电院综合楼第五会议室作了题为“新一代极紫外光刻机核心技术问题”的学术报告。 

  王宇主持了此次光电讲堂,对刘彦巍教授的到访表示欢迎,并代表光电研究院向刘教授颁发了荣誉证书。光电院相关科研人员和研究生40余人参加了此次学术交流。 

  刘教授现为美国SLAC国家加速器实验室科学家,研究领域涉及极紫外光刻、掩模检测、同步辐射等,长期从事EUV光源、EUV多层膜和掩模缺陷检测等方向的研究工作,是OLOEAPL等国际知名期刊审稿人。刘教授在讲堂上重点介绍了新一代极紫外光刻机的热点研究问题,就EUV研究中三大技术难点:光源及收集系统、光刻胶、无缺陷掩模技术进行了讲解和分析,详细介绍了自由电子激光器、工作波长检测系统等相关技术研究进展。 

  刘教授所作的报告,紧贴光刻技术的尖端研究方向,观点新颖,内容丰富,使参会的科研工作者较全面地了解了新一代极紫外光刻机核心技术的最新发展动态。与会人员认真听讲,兴趣浓厚,并就有关学术问题与刘教授进行了探讨交流,纷纷表示,报告会使大家开阔了视野,开拓了思路,增长了见识,对光电院今后在这一领域的研究工作起到了抛砖引玉的作用,达到了预期目的。 

  刘教授愿意今后在极紫外光刻领域与光电院的团队开展合作研究。 

报告会现场

颁发荣誉证书现场